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膨脹石墨蠕蟲研磨分散機，蠕蟲石墨烯研磨分散機,蠕蟲石墨剝離設備，*石墨烯玻璃設備，效率高的膨脹石墨玻璃設備是加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒完全被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩定（stabilization）目的。

 

研磨：利用剪切力、摩擦力或沖擊力（將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒完全被分離、潤濕,分布均勻及穩定目的。

分散是實現先進碳材料應用的重要前提之一，對于石墨烯類材料尤為重要，一方面，石墨烯神奇的性能是純石墨烯單片尺度上的性能，聚集或不適當改性的石墨烯部分或全部失去了那些神奇的性能；另一方面，制備工藝過程對可操作性、可加工性（如旋圖）要求將石墨烯分散在水或有機溶劑中。

而由于π-π耦合、范德華力和高比表面積，石墨烯會發生不可逆的團聚現象，甚至重新排列回石墨結構，導致制備石墨烯的穩定分散十分困難，目前來看，石墨烯的分散還有很多基本問題有待解決。

一、石墨烯分散是實現產業化的必經之路

石墨烯產業化應用研究邏輯進程 

如上所示，石墨烯產業化必須要解決兩個基本問題：

一是石墨烯的制備技術，即在合理價格得到具有接近理論性質的石墨烯產品，現今石墨烯工業化產品性能參差不齊，遠達不到理論水平；

二是石墨烯的分散技術，即不損害石墨烯結構與性能的高度分散方法。

只有上述兩個問題得到有效解決，石墨烯價值才能在商業上實現。

二、     石墨烯分散需要解決六大基本問題

Ø  石墨烯分散的挑戰性首先源于對石墨烯深度分散的必然要求，將石墨烯分散到單片或初級粒子狀態；

Ø  源于石墨烯對通過化學改性實現分散這一手段的低容忍性甚至抵觸性；化學改性，勢必干擾或一定程度上破壞π-π的完整性，從而降低或失去本征態石墨烯的優異性能；

Ø  源于石墨烯本身既不親水又不親油的結構特征；一般的分散劑分子又較難與石墨烯形成較強的物理吸附作用，所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也將受限；

Ø  源于石墨烯的π-π結構和強的范德華力，使石墨烯極易團聚，而且團聚體難以再分開；

Ø  還源于石墨烯極高的長徑比和比表面積；

Ø  石墨烯的分散還面臨著實際生產操作性方面的難題。例如，4%濃度的水型石墨烯漿料已是膏態，不具有流動性，這為生產過程中物料傳輸、分散和化學反應造成了困難。

 

細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。  研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。 CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。   研磨分散機應用領域： 化學工業：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。           食品工業：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉 ，豆粕酶解等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。 醫藥工業：各型糖漿、營養液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。 建筑工業：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等     設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級 電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、 電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ 電機選配件： PTC 熱保護、降噪型 研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷 研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理 進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍 研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器 研磨分散機 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接 類型 l/h rpm m/s kW   CMSD 2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15 CMSD 2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32 CMSD 2000/10 4000 7,200 41 22 DN80/DN65 CMSD 2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65 CMSD 2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125 CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150 *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到*大允許量的10%。 1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。 2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產品的要求。

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