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鈦白粉的分散及鈦白粉高速研磨分散機

產品型號：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥198567.00

所在地：

上海松江區

更新日期：

2025-04-15

詳細信息

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品牌：IKN	類型：剪切分散機	物料類型：固-液
適用物料：化學品	應用領域：化工	型號：CMSD2000
速度類別：有級變速	調速范圍：15000 r/min	分散輪直徑：115 mm
升降行程：1000 mm	電機功率：22 Kw	變速方式：變速帶變速
罐容量：100 L	外形尺寸：1-1-1 mm	整機重量：200 kg

鈦白粉的分散及鈦白粉高速研磨分散機,鈦白粉高速分散機，鈦白粉砂磨機由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
鈦白粉是目前工業領域中*好的白色顏料，被廣泛應用于料、塑料、橡膠、紙張、陶瓷、化妝品與紡織工業。其中金紅石型鈦白較銳鈦型鈦白具有更高的耐候性，但金紅石型鈦白表面仍然存在光活性缺陷，為了提高鈦白的成品質量，必須進行表面包膜處理，包膜前要求TiO2顆粒具有良好的分散性，所以必須進行打漿分散，提高其分散性。打漿分散工序作為表面處理的前序工作，它的地位是至關重要的，如何使打漿料漿具備更好的分散性和穩定性對獲得符合要求的TiO2顆粒分散性具有重要意義。

，在后處理生產工藝中，分散粗顆粒和包膜采用的都是濕法處理過程，在此過程中，鈦白粉在介質中的分散很重要，分散不良會使細微顆粒凝聚成粗顆粒，并會造成包膜時顆粒表面涂膜不均，甚至有些顆粒涂膜不到，達不到包膜作用。打漿分散的主要目的就是為后續工作提供充分分散的二氧化鈦穩定分散體。

機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

研磨分散機應用領域：

化學工業：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。

食品工業：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉，豆粕酶解等
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底等。
醫藥工業：各型糖漿、營養液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液，膠囊，微球動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟等。
建筑工業：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
新能源材料：石墨烯、碳納米管、碳纖維、鋰電池漿料、電池隔膜潤滑油等等

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產品的要求。

漿液濃度：常用的固液比為TiO2：H：0=1：4—1：6。漿液濃度過濃會使分散效果下降，濃度過稀會使生產效率降低。在生產中TiO 的濃度一般保持在600 g／l～800g／l，過稀在生產中無任何經濟效益，過濃則漿液在攪拌過程中，TiO 粒子容易絮凝，影響分散效果，且在后序工作中由于砂磨不易進行，會造成水、電等必要的經濟浪費。
3．攪拌強度：打漿分散時要有良好的攪拌幫助分散，據研究，攪拌的線速度在186m／min的情況下*好。線速度過快，被分散的TiO：離子因碰撞過于劇烈而重新絮凝，線速度過慢則漿液中絮凝的粒子不能擺脫粒子問的范德華力，不能在漿液中得到良好分散。

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