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石墨烯納米硅復合材料高速研磨分散機，石墨烯納米硅復合研磨分散機，石墨烯復合材料研磨分散機，納米硅研磨分散機，石墨烯復合漿料研磨分散機，德國進口高剪切研磨分散機，高轉速研磨分散機，膠體磨升級款研磨機   段工

石墨烯自身的間內躍遷及等離子體振蕩帶來的獨特光學特性，用于紅外光探測有著突出的優勢。但也存在著明顯的劣勢：本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機制，導致石墨烯探測器的光響應率較低；石墨烯自身的光生載流子壽命短，僅皮秒左右，導致光生載流子難以有效收集，也嚴重影響探測器的光響應率，石墨烯探測器的低響應率無法滿足實際應用的需要。目前，通過對石墨烯進行量子點修飾、構筑 PN 結、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結構結合、石墨烯與微腔或硅波導集成等多種方法，可以不同程度地提高石墨烯探測器的光響應率，以達到或接近實際應用的需要。

由于鋰離子電池具有高容量、無記憶效應、快速可逆充放電、高庫倫效率等優點，其已在便攜式電子產品如手機、筆記本電腦、數碼相機等中得到廣泛應用。然而再近二十年來，人們再大容量鋰離子二次電池的研究商進展緩慢。為滿足對高容量鋰離子二次電池的需求，開發高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究價值。

   硅石一種理想的鋰離子電池負極材料，其具有很高的理論儲鋰容量以及較低的儲理點位。而在充放電過程中，硅極材料的體積效應使得該材料容易粉化，進入從集流體上剝落，從而導致容量迅速衰減。而且，硅基材料的較差的循環穩定性大大限制了其應用

  石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網格形式排列形成的準二維材料。因其柔性結構、高的縱橫比、優異的導電性和化學穩定性。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前普通設備轉速的4-5倍。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%