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中式及工業(yè)化生產(chǎn)半導體微球管線式高速乳化機：具有半導體特性的微球，可用于光電器件、發(fā)光二極管、激光器等領域。常見的半導體微球材料包括硅、鍺、砷化鎵等。

半導體微球管線式高速乳化機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度da到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子gao速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，shun間均勻精細的分散乳化，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機的循環(huán)往復，#終得到穩(wěn)定的XXX產(chǎn)品。 半導體微球管線式高速乳化機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得chao細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎上又開發(fā)出ERS2000chao gao速剪切均質(zhì)機。其剪切速率可以chao過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji gao,無需其他輔助分散設備。

半導體微球管線式高速乳化機是高效、kuai速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度da到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子gao速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，shun間均勻精細的分散乳化，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機的循環(huán)往復，#終得到穩(wěn)定的XXX產(chǎn)品。
導電微球連續(xù)式高速乳化機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得chao細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎上又開發(fā)出ERS2000chaogao速剪切均質(zhì)機。其剪切速率可以chao過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji gao,無需其他輔助分散設備。

均質(zhì)乳化機	標準流量（H2O）	輸出轉(zhuǎn)速	標準線速度	馬達功率	進出口尺寸
型號	l/h	rpm	m/s	kW
ERS2000/04	300-1,000	14000	44	4	DN25/DN15
ERS 2000/5	1,000-1.5000	10,500	44	11	DN40 /DN 32
ERS 2000/10	3,000	7,300	44	22	DN50 / DN50
ERS 2000/20	8,000	4,900	44	37	DN80 /DN 65
ERS 2000/30	20,000	2,850	44	75	DN150 /DN 125
ERS 2000/50	40,000	2,000	44	160	DN200 /DN 150

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。

3 參數(shù)內(nèi)的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。