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IKN（依肯）用于集成電路化學(xué)機(jī)械拋光液氣相納米二氧化硅高速混合分散機(jī)ERS2000

產(chǎn)品型號：

ERS2000

品牌：

IKN（依肯）

≧1 臺
￥238900.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2025-04-15

詳細(xì)信息

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品牌：IKN（依肯）	類型：剪切分散機(jī)	物料類型：固-液
適用物料：化學(xué)品	應(yīng)用領(lǐng)域：化工	型號：ERS2000
速度類別：有級變速	調(diào)速范圍：15000 r/min	分散輪直徑：80 mm
升降行程：100 mm	電機(jī)功率：11 Kw	變速方式：變頻變速
罐容量：100 L	外形尺寸：1000 mm	整機(jī)重量：500 kg

用于集成電路化學(xué)機(jī)械拋光液氣相納米二氧化硅高速混合分散機(jī)是以高純氣相二氧化硅為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。

廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。
化學(xué)機(jī)械拋光適用于半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)線前段工藝以及生產(chǎn)線后端工藝，在半導(dǎo)體器件制造過程中，針對涉及前段工藝的淺溝槽隔離的化學(xué)機(jī)械拋光近些年被廣泛研究；在該工藝中需要對沉積在硅晶片的開口中的原硅酸四乙酯電介質(zhì)層進(jìn)行拋光

氣相二氧化硅是極其重要的高科技超微細(xì)無機(jī)新材料之一,由于其粒徑很小，因此比表面積大，表面吸附力強(qiáng)，表面能大，化學(xué)純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能，以其優(yōu)越的穩(wěn)定性、補(bǔ)強(qiáng)性、增稠性和觸變性，在眾多學(xué)科及領(lǐng)域內(nèi)獨(dú)具特性，有著不可取代的作用。氣相二氧化硅俗稱"超微細(xì)白炭黑"，廣泛用于各行業(yè)作為添加劑、催化劑載體，石油化工，脫色劑，消光劑，橡膠補(bǔ)強(qiáng)劑，塑料充填劑，油墨增稠劑，金屬軟性磨光劑，絕緣絕熱填充劑，高級日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各種領(lǐng)域。并為相關(guān)工業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展提供了新材料基礎(chǔ)和技術(shù)保證。由于它在磁性、催化性、光吸收、熱阻和熔點(diǎn)等方面與常規(guī)材料相比顯示出特異功能，因而得到人們的重視。

分散效果介紹：分散是至少兩種不相容液體構(gòu)成熱力學(xué)不穩(wěn)定體系，一種液體以球形單位分散在另一種液體中，所以分散越穩(wěn)定分散效果越好。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.分散頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、分散時間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

ERS2000系列選型表：

	標(biāo)準(zhǔn)流量（H2O）	輸出轉(zhuǎn)速	標(biāo)準(zhǔn)線速度	馬達(dá)功率	進(jìn)出口尺寸
型號	l/h	rpm	m/s	kW
ERS 2000/4	700	20000	66	5.5	DN25/DN15
ERS 2000/5	1,500	15,750	66	15	DN40 /DN 32
ERS 2000/10	5,000	10,950	66	30	DN50 / DN50
ERS 2000/20	10,000	7,300	66	55	DN80 /DN 65
ERS 2000/30	30,000	4,000	66	90	DN150 /DN 125
ERS 2000/50	50,000	3,000	66	160	DN200 /DN 150